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EUV-Spiegelinterferenzlithografie

PSI-Forscher zeigen, wie Chips noch kleiner werden könnten

Am Paul Scherrer Institut haben Forschende die Fotolithografie weiterentwickelt. Mit einer neuen Vorgehensweise bei der Bestrahlung wollen sie die Miniaturisierung von Chips weiter vorantreiben. Noch ist der Ansatz für die Industrie nicht relevant, doch wird 2025 die Forschung fortgeführt.

Arbeitsmarktzahlen von VDI und IW

Ausländische Ingenieure federn Wertschöpfungsverluste ab

Der »Ingenieurmangel« in Deutschland kostet bis zu 13 Milliarden Euro an Wertschöpfung,...

Drohender Wegfall der Einspeisevergütung

Lindner will Solarförderung baldmöglichst beenden

Finanzminister Christian Lindner hat angekündigt, die Förderung für erneuerbare...

Karlsruher Chipdesign House

Wie das KIT die europäische Halbleiterproduktion stärken will

Mit der Gründung des Karlsruher Chipdesign House soll das KIT eine wichtige Rolle in...

»PicoSYS 2892« und »PicoSYS 2892W«

Neue Embedded-PCs von ICO für den erweiterten Temperaturbereich

Mit einem kleinen Formfaktor und vielseitigen Schnittstellen wollen sich die neuen...

Proaktive Umweltstrategie

McKinsey-Analyse: CO2-Emissionen in Wertschöpfungskette senken

McKinsey-Analysen zeigen, dass europäische OEMs angesichts der dynamischen...

Designempfehlungen von Texas Instruments

Effiziente Vorladeschaltungen für Hochspannungs-Kondensatoren

Eine aktive, hysteresebehaftete Abwärtswandlerschaltung verbessert den Wirkungsgrad und...

Arbeitsplätze für sensible Produkte

So ergänzen sich ESD-Schutz und Ergonomie

Weil elektrostatische Entladungen elektronische Komponenten zerstören können, muss in...

LEO Satellite Communication

The Key to LEO Satellites System Design

Failures of terrestrial communication systems due to disasters have shown a large...

In zwei Minuten informiert

Video-Wochenrückblick: Raspberry, Volocopter, Bionischer Lüfter

KI-Moderatorin Elli präsentiert Technik, Trends und Innovationen aus der...